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초고순도 특수 가스

실리콘 웨이퍼의 제조 과정에 다양한 특수 가스, 특수 저장 용기, 표면 처리, 발브 등을 제공합니다.

질소

반도체 제조 공정에서 불순물 침투와 산화 작용 방지를 위한 캐리어 가스로 사용이 됩니다. 저온의 액체 질소는 반도체 품질 검사 과정에서 냉각제로 사용이 됩니다.

아르곤

반도체 제조 공정에서 캐리어 가스와 비활성 가스로 사용이 됩니다. 또한 sputtering(플라즈마를 기판에 증착시키는 공정), reactive ion etching(플라즈마 상태의 가스를 기판에 충돌시키는 공정), 플라즈마 공정에 process 가스로 사용이 됩니다.

 수소

반도체 공정의 캐리어 가스로 사용이 되고, 대기 중에서의 납땜 공정과 Annealing (고온으로 가열한 뒤 서서히 냉각하는 공정)에서 불순물을 제거 하는 데에도 사용이 됩니다. Forming 가스(질소에 일정 비율의 수소를 혼합한 가스)는 재료의 산화 방지에 사용이 됩니다.

 산소

산소는 이산화규소(SiO²)를 제조하기 위한 고순도 산화제로 사용이 되고, ashing(photoresist 제거 공정)과 chemical vapor deposition(기판 위에 박막을 만드는 공정)에 사용이  되고, 오존을 만들기 위해서도 사용이 됩니다.

이산화탄소

반도체 부품 품질 검사 과정에서 냉각제로 사용이 되고, 웨이퍼의 불순물을 제거하는 데에 사용이 됩니다. 또한 웨이퍼의 광경화성 수지를 제거하는 데에 사용이 되며, 이로 인해 해로운 유기 용매의 사용을 줄일 수 있습니다.